深圳市恒某公司訴國家知識產(chǎn)權局、陳某建實用新型專利權無效行政糾紛案-實用新型專利創(chuàng)造性判斷中對相近、相關技術領域的確定
人民法院案例庫 入庫編號：2024-13-3-024-014
關鍵詞
行政/實用新型專利權無效/創(chuàng)造性/相同技術領域/相近技術領域
基本案情
陳某建系專利號為201620169331.2、名稱為“鋁柵CMOS雙層金屬布線的版圖結構”的實用新型專利的專利權人。2020年7月15日，深圳市恒某公司針對該專利權提出無效宣告請求，對此國家知識產(chǎn)權局于2021年1月4日作出第47707號無效宣告請求審查決定，宣告該專利權有效。深圳市恒某公司不服，向北京知識產(chǎn)權法院提起訴訟，請求撤銷被訴決定，判令國家知識產(chǎn)權局重新作出決定。
北京知識產(chǎn)權法院于2021年9月22日作出（2021）京73行初7955號行政判決：駁回深圳市恒某公司的訴訟請求。深圳市恒某公司提出上訴，最高人民法院于2022年12月29日作出（2022）最高法知行終41號行政判決：一、撤銷北京知識產(chǎn)權法院（2021）京73行初7955號行政判決；二、撤銷國家知識產(chǎn)權局第47707號無效宣告請求審查決定；三、國家知識產(chǎn)權局就深圳市恒某公司針對專利號為201620169331.2、名稱為“鋁柵CMOS雙層金屬布線的版圖結構”的實用新型專利提出的無效宣告請求重新作出審查決定。
裁判理由
法院生效裁判認為，技術領域的確定，應當以權利要求所限定的內(nèi)容為準，一般根據(jù)專利的主題名稱，結合技術方案所實現(xiàn)的技術功能、用途加以確定。相近的技術領域一般指與實用新型專利產(chǎn)品功能以及具體用途相近的領域，相關的技術領域一般指實用新型專利與最接近的現(xiàn)有技術的區(qū)別技術特征所應用的功能領域。
該專利權利要求1要求保護的是一種鋁柵CMOS雙層金屬布線的版圖結構，旨在解決現(xiàn)有技術中單層金屬的鋁柵CMOS工藝設計的產(chǎn)品集成度低的問題。為了解決上述問題，該專利權利要求1采取的技術手段主要是：將現(xiàn)有的單層鋁柵CMOS金屬布線結構的壓焊點（輸入和輸出PAD、電源和地端PAD）作為第二層金屬結構設置于第一金屬層金屬結構上，也就是設置到鋁柵CMOS結構之上，提高鋁柵CMOS集成度。為了評價該專利權利要求1版圖結構的創(chuàng)造性，一審判決及被訴決定基于硅柵和鋁柵的柵極材料不同，均認為硅柵CMOS集成電路和鋁柵CMOS集成電路屬于不同的技術領域，進而認定二者的技術方案實質上并不相同，該專利權利要求1具備創(chuàng)造性。該專利權利要求1與證據(jù)1、2、3、5、6、7的區(qū)別技術特征在于，證據(jù)1、2、3、5、6、7公開的均是硅柵CMOS金屬布線結構，并沒有公開任何涉及“鋁柵”的內(nèi)容。在半導體工業(yè)的早期，金屬鋁一般被用作CMOS的柵極材料，此后硅被廣泛運用于柵極材料。盡管柵極材料從鋁到硅的發(fā)展確實是半導體器件的改進，但鋁柵與硅柵的區(qū)別對于該專利所采取的雙層金屬布線版圖結構的技術方案沒有實質性影響，柵極材料的選擇不應作為該專利的技術貢獻。因此，該專利與硅柵CMOS雙層金屬布線結構功能相同、用途相近，提高CMOS集成度的原理基本相同，可以將硅柵CMOS雙層金屬布線結構視為該專利的相同或相近技術領域。被訴決定和一審判決在評價該專利的創(chuàng)造性時，未考慮硅柵CMOS雙層金屬布線結構，屬于適用法律錯誤。
裁判要旨
確定實用新型專利的技術領域時，應當以權利要求所限定的技術方案為對象，以主題名稱為起點，綜合考慮專利技術方案的功能、用途。與專利技術方案的功能、用途相近的技術領域，構成專利技術領域的相近技術領域；專利技術方案與最接近現(xiàn)有技術的區(qū)別技術特征所應用的技術領域，構成專利技術領域的相關技術領域。
關聯(lián)索引
《中華人民共和國專利法》第22條第3款（本案適用的是2009年10月1日施行的《中華人民共和國專利法》第22條第3款）
一審：北京知識產(chǎn)權法院（2021）京73行初7955號行政判決（2021年9月22日）
二審：最高人民法院（2022）最高法知行終41號行政判決（2022年12月29日）
